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什么是掩膜版？掩膜版就是微電子制造過(guò)程中通過(guò)圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版又稱(chēng)光罩，光掩膜、光刻掩膜版、掩膜版等，掩膜版廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品、家電、汽車(chē)等行業(yè)領(lǐng)域，其中主要的客戶(hù)是半導(dǎo)體廠(chǎng)商英特爾、三星、臺(tái)積電以及京東方、華星光電等知名企業(yè)。

掩膜版分基板和遮光膜兩部分，卓力達(dá)作為蝕刻工藝的廠(chǎng)家之一，成功實(shí)踐客戶(hù)各種掩膜版蝕刻需求，那么掩膜版生產(chǎn)流程是怎么樣的呢？

1．客戶(hù)確定圖形后，通過(guò)對(duì)專(zhuān)業(yè)設(shè)計(jì)軟件進(jìn)行二次編輯和處理。

2．依據(jù)版圖設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)分層。運(yùn)算，根據(jù)工藝需求對(duì)相應(yīng)的參數(shù)進(jìn)行確定和格式轉(zhuǎn)化。

3．掩膜版的制造采用的是正性光刻膠，通過(guò)光刻機(jī)中的激光作用需要曝光區(qū)域的光刻內(nèi)部發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)。

4．通過(guò)曝光后在顯影液的作用下未曝光區(qū)域進(jìn)行保留并保護(hù)膜層。

5．保護(hù)膜層的部分會(huì)保留圖形的樣式，再通過(guò)蝕刻液進(jìn)行腐蝕溶解成型。

6．溶解成型后再通過(guò)脫模工序進(jìn)行脫模液除去多余的光刻膠。

7．利用清水洗凈掩膜版兩面污染物。

8．完成以上步驟后，再進(jìn)行尺寸測(cè)量得到準(zhǔn)確的參數(shù)值。

9．接下來(lái)就是檢測(cè)掩膜版的產(chǎn)品是否滿(mǎn)足客戶(hù)定制需求，對(duì)圖形、排名、傷痕、圖形邊緣等全面檢測(cè)和確認(rèn)良品。

10．對(duì)良品進(jìn)行包裝，封箱貼好各種參數(shù)值，批次，數(shù)量等，最終進(jìn)行發(fā)貨。